熱絲化學(xué)氣相沉積（Hot filament Chemical Vapor Deposition,HFCVD）擁有工藝成熟，設(shè)備簡單等諸多優(yōu)點(diǎn)，是工業(yè)上應(yīng)用*多的金剛石薄膜制備方法之一。設(shè)計(jì)用于合成納米金剛石涂層，CVD金剛石薄膜，微晶CVD金剛石涂層，石墨烯，碳納米管（CNTs）和各種其他薄膜涂層。金剛石作為所有已知材料中*硬的物質(zhì)，還有用高熱導(dǎo)率，高彈性模量，良好的耐磨性，耐腐蝕性，較低的摩擦系數(shù)和化學(xué)穩(wěn)定性，是切削的優(yōu)良材料。本設(shè)備包括反應(yīng)腔室、支撐系統(tǒng)、水路系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)以及自動(dòng)化控制系統(tǒng)等。設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊，布局合理，經(jīng)由多年設(shè)備研發(fā)的工程師團(tuán)隊(duì)，反復(fù)推敲，多次實(shí)驗(yàn)，結(jié)合計(jì)算機(jī)輔助設(shè)計(jì)系統(tǒng)無數(shù)次校核、驗(yàn)證。使設(shè)備具有優(yōu)良的沉積性能及可靠的**性。本產(chǎn)品具有節(jié)能，可靠，方便，智能化為一體的優(yōu)良設(shè)備。

熱絲化學(xué)氣相沉積產(chǎn)品特點(diǎn)：

本產(chǎn)品為雙層不銹鋼腔體式結(jié)構(gòu)，結(jié)構(gòu)緊湊合理；
本產(chǎn)品分上臺架和下臺架兩大部分，下臺架除了用于支撐反應(yīng)腔室，還布置氣路閥門，水路管道以及各種控制元件。上臺架布置顯示面板，電源器件，合理屏蔽電路干擾；
本產(chǎn)品**分散冷卻水道布局（腔體上蓋，腔體主體上下層和底板，以及熱絲彈力裝置等地方）。水泵，水管，智能監(jiān)控流量計(jì)，水路歧管等，均為封閉式循環(huán)系統(tǒng)。
本產(chǎn)品氣路組合主要由工藝氣體供給系統(tǒng)以及真空系統(tǒng)，氣路管道的合理分布，有效利用可使用的空間，氣體流量，壓力的實(shí)時(shí)監(jiān)測及**控制。
本產(chǎn)品選用雙基片式真空泵，抽氣速度穩(wěn)定在65m3/h.極限優(yōu)良真空全壓為0.5Pa，防護(hù)的等級為IP54.

熱絲化學(xué)氣相沉積技術(shù)指標(biāo)與特性：

真空腔室	結(jié)構(gòu)：圓筒形+上蓋 材質(zhì)：304上等不銹鋼 腔體尺寸:Φ640x320mm
電源：	AC220V /三相380V 30KW
控溫	低壓和大電流直流電源，熱絲溫度*高可達(dá)2500°C。   沉積基體表面：600℃左右 腔體壁溫度： <60℃ 控溫精度：0.1℃
測溫系統(tǒng)	遠(yuǎn)紅外光學(xué)測溫+熱電偶監(jiān)測
熱絲裝置：	恒定張力陣列幾何形狀，鉬絲，銅饋通，鎢絲結(jié)合處理，方便調(diào)整與維護(hù)
觀察窗	主觀察窗φ190mm 輔觀察窗φ45mm
水路系統(tǒng)	水冷電極、水冷腔體、水冷熱絲輔助部件 總水管接口尺寸 40mm 冷卻水流量：60L/MIN
真空系統(tǒng)	雙級旋片泵+高真空閥門組合（**閥，流量感應(yīng)器，調(diào)節(jié)閥……） ，數(shù)顯復(fù)合真空計(jì)， *大抽氣速度：65 m3/h 設(shè)備保壓：停泵 12 小時(shí)候后，真空≤10Pa； 抽氣接口 CF40    排氣接口KF16
操作系統(tǒng)：	PLC+觸摸屏人機(jī)界面半自動(dòng)控制系統(tǒng)；
**系統(tǒng)	報(bào)警及保護(hù)：對泵、電極等缺水、過流過壓、斷路等異常情況進(jìn)行報(bào)警并執(zhí)行相應(yīng)保護(hù)措施；完善 的邏輯程序互鎖保護(hù)系統(tǒng)；
占地尺寸	(主機(jī)）L1800×W1150×H1550(mm)。
整機(jī)重量	600kg