本設(shè)備為桌面型單靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計(jì)，將設(shè)備外形限制在了桌面級(jí)別，大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個(gè)直流電源，能夠用于濺射金屬材料，具有速度快溫升低等特點(diǎn)

單靶磁控鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：

桌面型單靶磁控鍍膜儀
樣品臺(tái)	尺寸	φ100mm
	加熱	*高500℃
	轉(zhuǎn)速	0-20可調(diào)
磁控濺射靶	數(shù)量	2” x1
真空腔體	腔體尺寸	φ180mm X 215mm
	觀察窗口	全向透明
	腔體材料	高純石英
	開啟方式	上蓋拆卸式
真空系統(tǒng)	機(jī)械泵	旋片泵
	分子泵	渦輪分子泵
	真空測量	電阻規(guī)+電離規(guī)
	抽氣接口	KF16
	抽氣接口	KF40
	排氣接口	KF16
	極限真空	1.0E-4Pa
	供電電源	AC 220V 50/60Hz
	抽氣速率	機(jī)械泵1.1L/s  分子泵600L/s
電源配置	數(shù)量	直流電源 x1
	*大輸出功率	直流電源150W
其他	供電電壓	AC220V,50Hz
	整機(jī)功率	2kW
	整機(jī)尺寸	550mm X 350mm X400mm