CY-VTC-3DC是專為非金屬薄膜鍍膜設(shè)計(jì)的三頭2"射頻等離子磁控濺射系統(tǒng)，主要用于多層氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜研究中性價(jià)比*高的鍍膜機(jī) . 直流磁控濺射選項(xiàng)可根據(jù)要求提供金屬薄膜沉積，實(shí)現(xiàn)三個(gè)直流、一個(gè)射頻/兩個(gè)直流和兩個(gè)射頻/一個(gè)直流濺射頭配置。

磁控濺射鍍膜儀技術(shù)參數(shù)：

輸入功率	·單相110V AC,50/60Hz ·1000W（含真空泵和冷水機(jī)）
磁控濺射靶	·包括三個(gè)帶水冷夾套的 2" 磁控濺射頭，通過快速夾具插入石英室 ·射頻電纜更換可在CYKY購(gòu)買 ·法蘭上內(nèi)置一個(gè)手動(dòng)百葉窗 ·包括一臺(tái)10L/min數(shù)控循環(huán)冷水機(jī)，用于冷卻濺射頭
濺射靶材	·靶材尺寸要求：2" 直徑 x 1/8" *大厚度 ·濺射距離范圍：50-80mm可調(diào) ·濺射角度范圍：0-25°可調(diào) ·2"直徑Cu靶和Al2O3靶包括用于演示測(cè)試 ·可根據(jù)要求提供各種氧化物 2" 濺射靶材，但需額外付費(fèi) ·對(duì)于目標(biāo)鍵合，包括 1 mm 和 2 mm 銅背板。
真空腔體	·真空腔體：300 毫米外徑 x 500 毫米高，由不銹鋼制成 ·密封法蘭：直徑274毫米。由鋁制成，帶有高溫硅膠O型圈 ·包括不銹鋼屏蔽籠，100% 屏蔽來自腔室的射頻輻射 ·*大真空度：1.0E-5 Torr，可選配渦輪泵和腔體烘烤
樣品臺(tái)	·樣品臺(tái)是一個(gè)可旋轉(zhuǎn)的加熱臺(tái)，由陶瓷加熱器制成，帶有不銹鋼蓋 ·樣品臺(tái)尺寸：直徑50毫米，適合*大 2" 晶圓 ·轉(zhuǎn)速：1-10轉(zhuǎn)可調(diào)，涂層均勻 ·支架溫度可從室溫調(diào)節(jié)至*高 600 °C（600 °C 時(shí)*高 5 分鐘；500 °C 時(shí)*高 2 小時(shí)），通過數(shù)字溫度控制器精度為 +/- 1.0 °C
真空泵	·內(nèi)置KF40真空接口，用于連接真空泵。 ·真空度：1.0E-2 Torr 含雙級(jí)機(jī)械泵 1.0E-3 Torr 帶可選渦輪泵
整機(jī)尺寸	540 mm L x 540 mm W x 1000 mm H
包裝重量	大約 145 kg
保修單	一年有限保修，終身支持
是否支持定制	是