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TN-MSP325S-3RF-D UPS三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的高性價比的磁控濺射鍍膜設備。 它是標準化，模塊化和可定制的。該裝置可用于制備單層或多層鐵電薄膜，導電膜，合金膜，半導體膜，陶瓷膜，介電膜，光學膜，氧化物膜，硬膜，PTFE膜等。 與同類設備相比，這種三靶磁控濺射鍍膜機不僅用途廣泛，而且具有體積小，操作簡便的優(yōu)點，是實驗室制備材料膜的理想設備。
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名稱 |
UPS三靶磁控濺射鍍膜儀 |
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型號 |
TN-MSP325S-3RF-D |
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電源電壓 |
交流220v，60Hz |
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UPS |
20KVA 16KW，延遲1小時 16節(jié)電池，容量38AH |
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真空室 |
尺寸：直徑 325毫米*高385毫米 材質：304不銹鋼 視口（窗口）：約4英寸（100毫米），帶快門 |
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樣品臺 |
頂部樣品架 樣品表：直徑 150毫米 樣本數(shù)量：*大 直徑4英寸 轉速：0-40rpm可調 加熱溫度：*高700C |
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水冷裝置 |
水流量：2.3m3 / h 電源：3P 制冷量：8250Kcal / h 壓縮機輸出功率：2.25KW |
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磁控濺射槍 |
3×2''磁控濺射槍，帶自動快門 向上濺射方向 目標直徑：2英寸 磁鐵：稀土磁鐵 |
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質量流量計 |
3×MFC質量流量控制（Ar，O2和N2） 測量范圍：*大20sccm 帶氣動隔離閥和過濾器。 |
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通過PC或PLC全自動控制 |
儲存至少100個配方 19''平板控制器 |
射頻發(fā)生器3×RF 300W自動匹配電源
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功率輸出范圍 |
5W?300W |
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MAX.大反射功率： |
100W |
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電源穩(wěn)定性 |
±0.1％ |
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諧波成分 |
≤-50dbc |
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電源 |
≤-50dbc |
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效率 |
≥70％ |
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功率因數(shù) |
≥90％ |
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反射功率（*大功率 |
<3W |
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比賽時間 |
1?3s |
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射頻輸出接口 |
50Ω，L29或定制 |
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MAX.大負載 |
電流：30ARMS ，電壓：7500VRMS |
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匹配阻抗 |
實部范圍：0?80Ω 虛部范圍：﹣200j?﹢ 200j |
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冷卻方式 |
強制冷卻 |
