0371-5536 5392 0371-5519 9322
雙室脈沖激光鍍膜機(jī)用于生長(zhǎng)光學(xué)晶體、鐵電體、鐵磁體、超導(dǎo)體及有機(jī)化合物薄膜材料，適合生長(zhǎng)高熔點(diǎn)、多元素及含有氣體元素的復(fù)雜層狀超晶格薄膜材料，廣泛應(yīng)用于大專(zhuān)院校薄膜材料研究及制作。
設(shè)備組成：
系統(tǒng)主要由濺射真空室、旋轉(zhuǎn)靶臺(tái)、抗氧化基片加熱臺(tái)、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、安裝機(jī)臺(tái)、真空測(cè)量及電控系統(tǒng)等部分組成.
實(shí)驗(yàn)室脈沖激光沉積技術(shù)參數(shù)：
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產(chǎn)品名稱 |
PLD脈沖激光沉積蒸發(fā)鍍膜儀 |
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產(chǎn)品型號(hào) |
TN-PLD-450 |
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主真空系統(tǒng) |
球形結(jié)構(gòu)，尺寸：直徑450mm |
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載樣系統(tǒng) |
垂直圓柱形結(jié)構(gòu)，尺寸：直徑150×150mm |
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真空系統(tǒng)配置 |
主真空室 |
機(jī)械泵、分子泵、閥門(mén) |
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裝載樣品系統(tǒng) |
機(jī)械泵、分子泵（與主腔共用）、閥門(mén) |
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極限壓力 |
主真空系統(tǒng) |
≤6*10-6Pa（烘烤、脫氣后） |
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裝載樣品系統(tǒng) |
≤6*10-3 Pa（烘烤、脫氣后） |
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真空回收系統(tǒng) |
主真空系統(tǒng) |
20分鐘可達(dá)5x10-3Pa（系統(tǒng)短暫暴露于大氣中，充入干燥氮?dú)饧纯砷_(kāi)始抽氣） |
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裝載樣品系統(tǒng) |
20分鐘可達(dá)5x10-3Pa（系統(tǒng)短暫暴露于大氣中，充入干燥氮?dú)饧纯砷_(kāi)始抽氣） |
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旋轉(zhuǎn)靶臺(tái) |
靶材*大尺寸約60 or 25mm；可一次安裝4塊靶材，可實(shí)現(xiàn)公轉(zhuǎn)換靶; 每塊靶材可自轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速5~60轉(zhuǎn)/分 |
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基片加熱臺(tái) |
樣品尺寸 |
?. 51 |
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運(yùn)動(dòng)方式 |
基片可連續(xù)回轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速5~60轉(zhuǎn)/分 |
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加熱溫度 |
基片加熱*高溫度800Ｃ±1 C，可控可調(diào) |
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氣路系統(tǒng) |
1 回路質(zhì)量流量控制器，1 回路充氣閥 |
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可選配件 |
激光裝置 |
兼容相干201激光 |
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激光束掃描裝置 |
2D掃描機(jī)械平臺(tái)，進(jìn)行二自由度掃描。 |
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計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng) |
控制內(nèi)容包括普通轉(zhuǎn)換靶、靶旋轉(zhuǎn)、樣品旋轉(zhuǎn)、樣品溫度控制、激光束掃描等。 |
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設(shè)備占地面積 |
主機(jī) |
1800 * 1800mm2 |
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電控柜 |
700 *700mm2(one) |
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